無塵室的濕度控制

。隨著生產(chǎn)行業(yè)越來越重視質(zhì)量檢查，對缺陷零容忍和嚴(yán)格的生產(chǎn)實踐標(biāo)準(zhǔn)，如今對無塵室的要求越來越高。

無塵室的主要應(yīng)用領(lǐng)域是電子工業(yè)、制藥

、航空航天、汽車、信息技術(shù)以及許多需要更嚴(yán)格制造條件的其他領(lǐng)域。無塵室的應(yīng)用范圍：顯微鏡下的小組件、電子設(shè)備和儀器的制造；對藥物和食品的無菌性和純度的日益增長的需求；用于醫(yī)學(xué)和生物應(yīng)用的無菌環(huán)境。

無塵室的污染物可以來自各種各樣的來源：空氣（潔凈度是根據(jù)無塵室的種類和灰塵的種類來確定的）、水分

、化學(xué)品、植物本身和工作人員。

其中濕度會帶來許多影響：

微生物生長與腐蝕

工作臺表面的凝結(jié)導(dǎo)致生產(chǎn)計劃延誤和產(chǎn)品質(zhì)量低劣

導(dǎo)致產(chǎn)品腐敗

下面以半導(dǎo)體和制藥無塵室的高濕度為例做具體闡述：

在半導(dǎo)體無塵室里，微電路和微芯片制造需要被稱為光阻的吸濕聚合物來屏蔽蝕刻過程的電路線

。由于這種材料的吸濕性，它們會吸收許多水分，因此，微觀電路線被切斷或橋接，導(dǎo)致電路故障。此外，在半導(dǎo)體制造中，當(dāng)晶片制造區(qū)域中的濕度水平波動時，可能出現(xiàn)大量的問題。烘烤時間通常會增加，整個過程變得更加難以控制。相對濕度超過35% 就會使部件容易受到腐蝕。另外，當(dāng)顯影溶劑噴到晶片上時，溶劑迅速蒸發(fā)，冷卻晶片時也足以冷凝空氣中的水分。這種額外的水分可以改變顯影劑的特性，并被吸收到半導(dǎo)體層上。這可能會導(dǎo)致半導(dǎo)體腫脹和進(jìn)一步的產(chǎn)品質(zhì)量問題，需要額外的附加過程來補(bǔ)救。

在制藥無塵室的制藥設(shè)備中