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安詩曼-精芯除濕·致凈生活環(huán)境溫度濕度系統(tǒng)化解決方案供應商
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晶體硅印刷網(wǎng)版除濕設備的制作方法
本實用新型涉及一種晶體硅印刷網(wǎng)版除濕設備
背景技術(shù)：
隨著太陽能晶體硅電池對光電轉(zhuǎn)換效率的要求越來越高
技術(shù)實現(xiàn)要素：
為了克服上述缺陷，本實用新型提供了一種晶體硅印刷網(wǎng)版除濕設備
本實用新型為了解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：一種晶體硅印刷網(wǎng)版除濕設備
，包括由框架結(jié)構(gòu)和側(cè)板形成的密封的箱體，所述箱體內(nèi)設有可抽拉至箱體外的送料盤，所述送料盤上設有鏤空的晶體硅印刷網(wǎng)版卡槽；所述箱體內(nèi)對應所述送料盤的晶體硅印刷網(wǎng)版卡槽的上方設有上加熱板，以及對應所述送料盤的晶體硅印刷網(wǎng)版卡槽的下方設有下加熱板；所述下加熱板固定于上下氣缸上作為本實用新型的進一步改進
作為本實用新型的進一步改進
作為本實用新型的進一步改進，所述送料盤上的鏤空卡槽尺寸大于所述上加熱板和下加熱板的尺寸
作為本實用新型的進一步改進
作為本實用新型的進一步改進，所述箱體內(nèi)設有氣壓泵和氣壓表
本實用新型的有益效果是：該晶體硅印刷網(wǎng)版除濕設備通過上
附圖說明
圖1為本實用新型外形結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2為本實用新型內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖
。結(jié)合附圖，作以下說明：
1——箱體
；2——送料盤；3——晶體硅印刷網(wǎng)版卡槽；4——上加熱板
；5——下加熱板
；6——上下氣缸；7——操作箱
；8——氣動滑軌；9——氣壓泵；10——氣壓表
；11——晶體硅印刷網(wǎng)版
。具體實施方式
以下結(jié)合附圖，對本實用新型的一個較佳實施例作詳細說明
。但本實用新型的保護范圍不限于下述實施例，即但凡以本實用新型申請專利范圍及說明書內(nèi)容所作的簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本實用新型專利涵蓋范圍之內(nèi)。參閱圖1-2
，為本實用新型所述的一種晶體硅印刷網(wǎng)版除濕設備，包括由框架結(jié)構(gòu)和側(cè)板形成的密封的箱體1，所述箱體內(nèi)設有可抽拉至箱體外的送料盤2，所述送料盤上設有鏤空的晶體硅印刷網(wǎng)版卡槽3；所述箱體內(nèi)對應所述送料盤的晶體硅印刷網(wǎng)版卡槽的上方設有上加熱板4，以及對應所述送料盤的晶體硅印刷網(wǎng)版卡槽的下方設有下加熱板5；所述下加熱板固定于上下氣缸6上，所述上下氣缸能夠驅(qū)動所述下加熱板上下運動以調(diào)整高度；所述上加熱板和下加熱板內(nèi)分別設有加熱絲其中
該除濕設備主要用于太陽能晶體硅網(wǎng)版
，曬版過程中PS版烘烤，具體過程如下：使用時
，首先打開箱門，將送料盤彈出，然后將晶體硅印刷網(wǎng)版11放置于晶體硅印刷網(wǎng)版卡槽上，用卡扣固定牢固，再將送料盤送入箱體內(nèi)，關(guān)好箱門，然后通過操作箱啟動上下氣缸，以調(diào)整下加熱板的位置(上加熱板距離PS版0.5-1.5cm，下加熱板距離PS版0.5-3.0cm)，然后再通過操作箱控制上、下加熱板的加熱絲加熱(可設定上加熱面溫度為70℃，下加熱板溫度為60℃，根據(jù)需要設置)，通過烘烤將晶體硅印刷網(wǎng)版內(nèi)的殘留濕氣去除，從而使晶體硅印刷網(wǎng)版徹底干燥。由此可見
，該晶體硅印刷網(wǎng)版除濕設備通過上、下兩片加熱板對PS版進行靜態(tài)烘烤，去除PS版內(nèi)殘留濕氣，使PS徹底干燥，具有結(jié)構(gòu)簡單、使用方便、制造成本低、除濕效果好等優(yōu)點。咨詢熱線
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